文献类型：期刊文章

作　　者：白敏菂[1] 冷宏[2,3] 李超群[1,3]

机构地区：[1]大连海事大学环境工程研究所,辽宁大连116026 [2]大连大学环境与化学工程学院,辽宁大连116622 [3]大连博羽环保技术开发有限公司,辽宁大连116026

出　　处：《电子工业专用设备》

基　　金：国家863项目(2008AA06Z317);国家自然科学基金项目(20778028)

年　　份：2011

卷　　号：40

期　　号：7

起止页码：14-16

语　　种：中文

收录情况：普通刊

摘　　要：近来特大规模集成电路研发与生产的快速进展,硅片表面清洗至关重要。因此大连海事大学环境工程研究所采用强电离放电方法(折合电场强度达到380 Td,电子具有平均能量达到9 eV)研发成功国内首台具有知识产权dhO3g型系列高浓度臭氧产生器,其臭氧浓度达到240 mg/L。该装置具有自动化水平高,能耗低、体积小、高性价比等特点,并阐述了该装置的技术先进性及其技术指标。

关 键 词：臭氧 硅片清洗:强电离放电  性价比

分 类 号：TN305]