文献类型：期刊文章

作　　者：黄秋实[1,2] 李浩川[1,2] 朱京涛[1,2] 王晓强[1] 蒋励[1] 王占山[1,2] 唐永建[3]

机构地区：[1]同济大学物理系,精密光学工程技术研究所,上海200092 [2]上海市特殊人工微结构材料与技术重点实验室,上海200092 [3]中国工程物理研究院激光聚变研究中心,四川绵阳621900

出　　处：《强激光与粒子束》

基　　金：国家自然科学基金项目(10773007,10704056);科技部国际交流与合作专项项目(2008DFA01920)

年　　份：2011

卷　　号：23

期　　号：6

起止页码：1659-1662

语　　种：中文

收录情况：BDHX、BDHX2008、CAS、CSA-PROQEUST、CSCD、CSCD2011_2012、EI(收录号：20113014176660)、IC、INSPEC、JST、RCCSE、SCOPUS、ZGKJHX、核心刊

摘　　要：采用直流磁控溅射技术制备了厚度约100nm的W,WSi2,Si单层膜和周期约为20nm,Si膜层厚度与周期的比值为0.5的W/Si,WSi2/Si周期多层膜。利用台阶仪对镀膜前后基底表面的面形进行了测试,计算并比较了不同膜系的应力值。结果表明:W单层膜表现出较大的压应力,而W/Si周期膜则表现为张应力。WSi2单层膜和WSi2/Si周期多层膜均表现为压应力,没有应力突变,应力特性最为稳定。因此,WSi2/Si材料组合是研制大膜对数X射线多层膜较好的材料组合。

关 键 词：应力 形变  多层膜  磁控溅射 X射线  

分 类 号：O434.1]