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期刊文章详细信息

退火温度对TiO_2及Nb掺杂TiO_2薄膜的影响    

Influence of Annealing Temperature on TiO_2 and Nb Doped TiO_2 Films

  

文献类型:期刊文章

作  者:刘涛[1,2] 陈倩[1] 赵小如[2]

机构地区:[1]商洛学院物理与电子信息工程系,陕西商洛726000 [2]西北工业大学理学院,陕西西安710072

出  处:《西华大学学报(自然科学版)》

基  金:国家自然科学基金资助项目(50872112)

年  份:2011

卷  号:30

期  号:4

起止页码:31-34

语  种:中文

收录情况:AJ、CAS、CSA、CSA-PROQEUST、IC、JST、ZGKJHX、普通刊

摘  要:采用溶胶-凝胶法在普通载玻片上制备了均匀透明的TiO2薄膜和掺Nb的TiO2薄膜,利用XRD,UV-VIS等手段,研究了退火温度对薄膜的结构、紫外-可见光区透射率、光学禁带宽度等性质的影响,并分析了掺杂Nb对TiO2薄膜晶体结构和光学性能的影响。实验结果表明:退火温度越高,薄膜生长取向越好,晶粒尺寸越大,光透过率越低;掺杂Nb后,能明显改善其结晶与生长,并降低其晶粒尺寸,透射率光谱吸收边缘产生蓝移现象。

关 键 词:TIO2薄膜 溶胶凝胶 退火温度 光电性能 蓝移现象  

分 类 号:O484.4]

参考文献:

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同被引文献:

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