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真空镀膜膜厚均匀性的理论分析
Theoretic Analysis on the Uniformity of Thin Films Disposited by Means Coater
文献类型：期刊文章
机构地区：[1]天津理工学院基础教育学院
年 份：1999
卷 号：15
期 号：A05
起止页码：102-104
语 种：中文
收录情况：普通刊
摘 要：就真空镀膜机内几何配置对薄膜均匀性的影响进行了理论分析。
关 键 词：薄膜 均匀性 几何配置 真空镀膜 厚度
分 类 号：TB43] O484.1]
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