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期刊文章详细信息

钼溅射靶材的应用、制备及发展    

THE APPLICATION,MANUFACTURE AND DEVELOPING TREND OF MOLYBDENUM SPUTTERING TARGET

  

文献类型:期刊文章

作  者:安耿[1] 李晶[1] 刘仁智[1] 陈强[1] 张常乐[1]

机构地区:[1]金堆城钼业股份有限公司技术中心,陕西西安710077

出  处:《中国钼业》

年  份:2011

卷  号:35

期  号:2

起止页码:45-48

语  种:中文

收录情况:JST、ZGKJHX、普通刊

摘  要:随着平面显示器行业和光伏行业的迅速发展,钼溅射靶材的需求量越来越大。本文就钼溅射靶材的特点,从其应用、市场、制备工艺以及发展趋势等方面进行了总结和讨论。

关 键 词:钼溅射靶材  应用  制备  发展  

分 类 号:TB43]

参考文献:

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耦合文献:

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引证文献:

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二级引证文献:

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同被引文献:

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