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期刊文章详细信息

金刚石薄膜内应力研究现状  ( EI收录)  

Current Status of Research on Internal Stress in Diamond Films

  

文献类型:期刊文章

作  者:方亮[1] 王万录[1] 王健[2] 廖克俊[1] 丁培道[2]

机构地区:[1]重庆大学理学院应用物理系 [2]重庆大学材料学院材料学系,重庆400014

出  处:《材料导报》

基  金:国家自然科学基金

年  份:1999

卷  号:13

期  号:6

起止页码:39-41

语  种:中文

收录情况:BDHX、BDHX1996、CAS、CSCD、CSCD2011_2012、EI、IC、JST、RCCSE、SCOPUS、UPD、ZGKJHX、核心刊

摘  要:主要从内应力的测定方法、内应力与沉积工艺参数之间的关系两方面对国内外金刚石薄膜内应力的研究现状进行了综述。

关 键 词:金刚石 薄膜  内应力 CVD 研究  现状  

分 类 号:O484.2]

参考文献:

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耦合文献:

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引证文献:

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同被引文献:

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