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期刊文章详细信息

应用纳米级金刚石抛光亚纳米级光滑表面  ( EI收录)  

Application of UFD on Polishing Surfaces with Sub nanometer Scale Roughness

  

文献类型:期刊文章

作  者:高宏刚[1] 王建明[2]

机构地区:[1]中国科学院长春光学精密机械研究所应用光学国家重点实验室,长春130022 [2]中国科学院北京物理所,北京100081

出  处:《光学精密工程》

基  金:国家自然科学基金

年  份:1999

卷  号:7

期  号:5

起止页码:80-84

语  种:中文

收录情况:AJ、CAS、CSA、CSA-PROQEUST、CSCD、CSCD2011_2012、EI、INSPEC、JST、SCOPUS、ZGKJHX、普通刊

摘  要:用爆炸法合成的纳米级金刚石是一种新型纳米材料,其物理机械特性与普通亚微米级金刚石微粉有很大差别。我们使用这种材料配制的抛光液对YVO4 晶体进行了超精密抛光的初步实验,获得了具有较低表面粗糙度(< 1 nm )的表面,发现了纳米金刚石作为抛光材料的独特之处。本文描述了实验结果,分析了抛光表面,并总结了纳米金刚石粉的抛光特性。

关 键 词:抛光 金刚石 纳米材料 光滑表面  

分 类 号:TQ171.684] TG580.692]

参考文献:

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二级参考文献:

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耦合文献:

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引证文献:

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同被引文献:

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