期刊文章详细信息
文献类型:期刊文章
机构地区:[1]中国科学院长春光学精密机械研究所应用光学国家重点实验室,长春130022
基 金:国家自然科学基金
年 份:1999
卷 号:7
期 号:5
起止页码:1-8
语 种:中文
收录情况:AJ、CAS、CSA、CSA-PROQEUST、CSCD、CSCD2011_2012、EI、INSPEC、JST、SCOPUS、ZGKJHX、普通刊
摘 要:对磁介质辅助抛光技术20 年来的发展作了简要的回顾,进而介绍了磁流变抛光技术的产生和发展背景、抛光机理及微观解释、数学模型,同时提出了这种抛光技术的关键所在,并对其发展未来进行了展望。
关 键 词:磁介质辅助抛光 磁流变抛光 磁流变抛光液 抛光
分 类 号:TQ171.684] TG580.692]
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引证文献:
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