期刊文章详细信息
磁控溅射Al-Mg-B薄膜成分优化 ( EI收录 SCI收录)
COMPOSITION OPTIMIZATION OF Al-Mg-B THIN FILM PROPERTIES PREPERAED BY MAGNETRON SPUTTERING
文献类型:期刊文章
机构地区:[1]大连理工大学机械工程与材料能源学部材料科学与工程学院,大连116024 [2]大连理工大学三束材料改性教育部重点实验室,大连116024 [3]大连理工大学物理与光电工程学院,大连116024 [4]Institute of Materials Engineering,University of Siegen,siegen57076
基 金:中央高校基本科研业务费专项资金资助项目DUT10JN08~~
年 份:2011
卷 号:47
期 号:5
起止页码:628-633
语 种:中文
收录情况:AJ、BDHX、BDHX2008、CAS、CSA、CSA-PROQEUST、CSCD、CSCD2011_2012、EI、IC、INSPEC、JST、RCCSE、SCI(收录号:WOS:000291845800018)、SCI-EXPANDED(收录号:WOS:000291845800018)、SCIE、SCOPUS、WOS、ZGKJHX、核心刊
摘 要:采用多靶磁控共溅射技术,利用高纯度Al,Mg和B单质靶材为溅射源,室温下在单晶Si(100)表面上成功制备了低摩擦系数的非晶态Al-Mg-B硬质薄膜.通过改变Al/Mg混合靶体积配比及靶材溅射功率来调控薄膜成分,最终制备的Al-Mg-B薄膜成分接近AlMgB_(14)相的元素成分比,其Vickers硬度约为32 GPa.XRD及HR-TEM分析表明.制备的薄膜均为非晶态XPS测试表明薄膜内部存在B-B及Al-B单键;FTIR进一步测试表明,在波数1100 cm^(-1)处出现较为明显的振动吸收峰,证明制备的薄膜中含有B_(12)二十面体结构,这也是薄膜具有超硬性的主要原因.薄膜摩擦磨损测试表明薄膜摩擦系数在0.07左右.
关 键 词:磁控溅射 Al-Mg-B薄膜 硬度 B_(12)二十面体
分 类 号:TB43] O484.5]
参考文献:
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引证文献:
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