文献类型：期刊文章

作　　者：王铁宝[1] 王晓东[1] 刘强安[2] 何丽静[3]

机构地区：[1]河北工业大学材料科学与工程学院,天津300130 [2]河北省安装工程公司第二分公司,唐山063000 [3]扎努西电气机械天津压缩机有限公司,天津300308

出　　处：《河北工业大学学报》

年　　份：2011

卷　　号：40

期　　号：2

起止页码：32-36

语　　种：中文

收录情况：AJ、BDHX、BDHX2008、CAS、CSA、CSA-PROQEUST、INSPEC、ZGKJHX、ZMATH、核心刊

摘　　要：在单晶Si基片用离子束溅射沉积法制备了1-100 nm的Al2O3纳米薄膜.利用原子力显微镜分析和研究了不同厚度Al2O3纳米薄膜的表面形貌,并用X射线光电子能谱（XPS）仪和X射线衍射仪分别对100 nm的Al2O3纳米薄膜表面结构和成分进行了表征,结果表明：薄膜厚度在1-50 nm范围时,颗粒形态随着薄膜厚度的变化逐渐变化,由二维生长的胞状渐变为多个颗粒聚成的球状.当薄膜厚度大于50 nm时,小的球形颗粒聚成大球形颗粒,并且球形颗粒生长状态为三维生长.随着薄膜厚度的增加表面粗糙度先增加后减小,当薄膜厚为5 nm时出现最大值;在衬底温度低于100℃的条件下,沉积在基片上的纳米薄膜为非晶态,纳米颗粒为无方向性沉积,颗粒呈团球状,其成分基本满足Al2O3的标准成分配比.

关 键 词：纳米薄膜  AL2O3 离子束沉积  掠入射衍射  X射线衍射

分 类 号：O484.1]