登录    注册    忘记密码

期刊文章详细信息

铜掺杂氧化锌薄膜的阻变特性    

Resistive switching characteristics of Cu-doped ZnO thin films

  

文献类型:期刊文章

作  者:董清臣[1] 贾彩虹[1] 张伟风[1]

机构地区:[1]河南大学物理与电子学院光伏材料省重点实验室,河南开封475004

出  处:《电子元件与材料》

基  金:国家自然科学基金资助项目(No.60976016)

年  份:2011

卷  号:30

期  号:5

起止页码:18-22

语  种:中文

收录情况:BDHX、BDHX2008、CAS、CSCD、CSCD_E2011_2012、INSPEC、JST、RCCSE、ZGKJHX、核心刊

摘  要:采用脉冲激光沉积法在SnO2:F(FTO)衬底上制备了单一c轴取向生长的ZnO和ZnO:Cu薄膜,并对具有Au/ZnO/FTO和Au/ZnO:Cu/FTO三明治结构的器件进行了阻变特性测试。结果显示:两种器件在室温电场作用下均显示出双极可逆变阻特性;Cu掺杂使ZnO薄膜的开关比大幅增加,电流–电压曲线拟合结果显示这是由Schottky结界面机制产生的高低阻态引起的。

关 键 词:电阻开关 脉冲激光沉积 铜掺杂氧化锌  Schottky结界面势垒  

分 类 号:O484.4]

参考文献:

正在载入数据...

二级参考文献:

正在载入数据...

耦合文献:

正在载入数据...

引证文献:

正在载入数据...

二级引证文献:

正在载入数据...

同被引文献:

正在载入数据...

版权所有©重庆科技学院 重庆维普资讯有限公司 渝B2-20050021-7
 渝公网安备 50019002500408号 违法和不良信息举报中心