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期刊文章详细信息

SiC肖特基势垒二极管的研制  ( EI收录)  

Pt Schottky Barrier Diodes on n-type 6H-Silicon Carbide

  

文献类型:期刊文章

作  者:张玉明[1] 张义门[1] 罗晋生[2]

机构地区:[1]西安电子科学大学微电子所,西安710071 [2]西安交通大学微电子工程系,西安710049

出  处:《Journal of Semiconductors》

基  金:国防预研基金

年  份:1999

卷  号:20

期  号:11

起止页码:1040-1043

语  种:中文

收录情况:AJ、BDHX、BDHX1996、CAS、CSA、CSA-PROQEUST、CSCD、CSCD2011_2012、EBSCO、EI、IC、INSPEC、JST、RSC、SCOPUS、WOS、ZGKJHX、核心刊

摘  要:本文报道了采用电子束热蒸发的方法用铂(Pt)做肖特基接触在n 型6HSiC体材料上制作肖特基二极管的工艺过程和器件特性.对实验结果进行了比较分析,IV特性测量说明Pt/6HSiC肖特基二极管有较好的整流特性,热电子发射是其主要的输运机理,理想因子为123,肖特基势垒高度为103eV,开启电压约为05V.

关 键 词:肖特基势垒 二极管 碳化硅 研制  

分 类 号:TN311.7]

参考文献:

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同被引文献:

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