文献类型：期刊文章

作　　者：张发云[1] 叶建雄[2]

机构地区：[1]新余学院太阳能科学与工程系,江西新余338004 [2]南昌工程学院机械与动力工程系,南昌330099

出　　处：《光子学报》

基　　金：2010江西省教育厅科技项目(No.GJJ10647);2009年江西省高校省级教改项目(No.JXJG-09-24-2)资助

年　　份：2011

卷　　号：40

期　　号：2

起止页码：222-226

语　　种：中文

收录情况：AJ、BDHX、BDHX2008、CAS、CSA、CSA-PROQEUST、CSCD、CSCD2011_2012、EI、IC、INSPEC、JST、RCCSE、RSC、SCOPUS、WOS、ZGKJHX、核心刊

摘　　要：采用各向同性腐蚀法制备多晶硅绒面,腐蚀液为HF和HNO3的混合溶液,缓和剂为NaH2PO4.2 H2O溶液.利用SEM、AFM和紫外分光光度计对硅片绒面进行检测和分析,初步探讨了酸腐蚀机理.结果表明：采用NaH2PO4.2 H2O溶液作为缓和剂,腐蚀后的硅片表面具有均匀的腐蚀坑,表面陷光效果较好,通过优化各种参量,反应速度可以控制在2μm/min左右,适合工业生产的要求.在富HF时,硅片表面易形成尖锐边缘的腐蚀坑,出现或多或少的小孔,反射率最低可达16.5%-17.5%;在富HNO3时,硅片表面易形成腐蚀坑较浅、尺寸偏大的气泡状绒面或光面,反射率较高.

关 键 词：多晶硅 酸腐蚀 绒面 反射率 形貌

分 类 号：TM914.4] TN305.2]