文献类型：期刊文章

作　　者：李学超[1] 李长生[2] 晋跃[2] 陈娟[2] 莫超超[2] 朱秉莹[2]

机构地区：[1]南京宝色股份公司,江苏南京211178 [2]江苏大学材料学院,江苏镇江212013

出　　处：《真空》

年　　份：2011

卷　　号：48

期　　号：1

起止页码：43-45

语　　种：中文

收录情况：BDHX、BDHX2008、CAS、ZGKJHX、核心刊

摘　　要：采用双靶反应磁控溅射的方法在40Cr基体上制备了TiAlN薄膜和WTiN薄膜。用XRD,SEM,AFM等检测手段对薄膜的表面状态及结构等进行了表征,采用UMT-3型多功能摩擦试验机,在室温、大气环境、无润滑的条件下对TiAlN和WTiN薄膜的摩擦性能进行了评价。实验结果表明:TiAlN薄膜出现了两种硬质相TiN与TiAlN共存的物相结构,而WTiN薄膜出现了TiN0.6O0.4,TiN,W2N,WN等多种物相结构;制备的TiAlN、WTiN薄膜表面晶粒均匀细小,生长均以粒状结构为主;摩擦实验数据表明制备的TiAlN和WTiN薄膜均拥有良好的摩擦性能。

关 键 词：双靶磁控溅射  TIALN薄膜 WTiN薄膜  摩擦性能  

分 类 号：O484]