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现代MOCVD技术的发展与展望
RECENT PROGRESS IN MOCVD TECHNOLOGY
文献类型：期刊文章
机构地区：[1]华南师范大学量子电子学研究所 [2]华南理工大学应用物理学系广州510641
年 份：1999
卷 号：31
期 号：3
起止页码：99-107
语 种：中文
收录情况：AJ、CAS、CSA、CSA-PROQEUST、JST、MR、PROQUEST、RCCSE、ZGKJHX、ZMATH、普通刊
摘 要：ＭＯＣＶＤ是一门制造化合物半导体器件的关键技术－ 本文综合分析了现代ＭＯＣＶＤ 技术的基本原理、特点及实现这种技术的设备的现状及其发展－ 重点讨论了能实现衬底温度、衬底表面反应源流均匀性的立式高速涡轮转盘ＭＯＣＶＤ技术－
关 键 词：MOCVD技术 有机金属化合物 气相外延 衬底
分 类 号：TN304.05]
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