登录    注册    忘记密码

期刊文章详细信息

纳米碳化硅复合化学镀镍-磷合金工艺    

Process of electroless Ni-P-nano-SiC plating

  

文献类型:期刊文章

作  者:王秋梅[1] 方玉霞[1] 袁孝友[2]

机构地区:[1]合肥昌河汽车有限责任公司,安徽合肥230031 [2]安徽大学化学化工学院,安徽合肥230039

出  处:《电镀与涂饰》

年  份:2011

卷  号:30

期  号:1

起止页码:30-33

语  种:中文

收录情况:AJ、BDHX、BDHX2008、CAS、CSA、CSA-PROQEUST、CSCD、CSCD_E2011_2012、INSPEC、JST、RCCSE、ZGKJHX、核心刊

摘  要:以硫酸镍为主盐,次磷酸钠为还原剂,在铁基体上进行了化学镀Ni–P–纳米SiC。研究了镀液温度、pH及硫酸镍质量浓度对镀速的影响,得到较佳工艺条件如下:硫酸镍24~26g/L,次磷酸钠20~35g/L,柠檬酸10~20g/L,醋酸钠10~15g/L,丁二酸钠2~4g/L,纳米SiC粉体0.6g/L,pH4.1~4.8,温度80~85°C。结果表明,获得的化学镀Ni–P–纳米SiC复合镀层为非晶态结构,其耐蚀性远大于化学镀Ni–P合金镀层。

关 键 词:化学镀 镍-磷合金 碳化硅 纳米复合镀层 耐蚀性

分 类 号:TQ153.2]

参考文献:

正在载入数据...

二级参考文献:

正在载入数据...

耦合文献:

正在载入数据...

引证文献:

正在载入数据...

二级引证文献:

正在载入数据...

同被引文献:

正在载入数据...

版权所有©重庆科技学院 重庆维普资讯有限公司 渝B2-20050021-7
 渝公网安备 50019002500408号 违法和不良信息举报中心