期刊文章详细信息
PECVD技术制备光学减反射膜工艺探索
Preparation of anti-reflection films by PECVD technology
文献类型：期刊文章
机构地区：[1]西安工业大学陕西省薄膜技术与光学检测重点实验室,西安710032
年 份：2011
卷 号：37
期 号：1
起止页码：97-100
语 种：中文
收录情况：BDHX、BDHX2008、CAS、CSCD、CSCD2011_2012、IC、JST、RCCSE、SCOPUS、ZGKJHX、核心刊
摘 要：讨论了采用PECVD方法在K9玻璃基底上制备SiO2、SiNx、以及SiOxNy薄膜材料的工艺参数与薄膜光学特性、沉积速率的关系,并且运用掌握的工艺参数成功地制备了400～800nm波长范围双层、梯度折射率减反射膜样片。实验结果表明,采用PECVD方法能够制备折射率可控的光学薄膜材料,沉积薄膜厚度的精度可以控制在7%以内。
关 键 词：PECVD 光学减反射膜 工艺参数 薄膜光学特性
分 类 号：O484.42]
参考文献：
正在载入数据...
二级参考文献：
正在载入数据...
耦合文献：
正在载入数据...
引证文献：
正在载入数据...
二级引证文献：
正在载入数据...
同被引文献：
正在载入数据...
