期刊文章详细信息
文献类型:期刊文章
机构地区:[1]齐鲁师范学院物理系,山东济南250013 [2]泰安师范附属学校,山东泰安271000
基 金:山东省教育厅科技计划项目(J08LI62)
年 份:2010
卷 号:25
期 号:6
起止页码:21-24
语 种:中文
收录情况:普通刊
摘 要:利用低温分子束外延技术制备高质量的GaMnAs薄膜,通过XRD对样品进行分析,从实验和理论上分析生长条件、退火条件对薄膜缺陷及薄膜性能的影响.尤其是分析系统的研究间隙位Mn原子与As反位原子缺陷的变化,从而深入理解掺杂原子的周围结构与磁性之间的关系,为下一步制备自旋器件提供高载流子浓度、高居里温度的(Ga,Mn)As材料提供了可能性.
关 键 词:分子束外延 X射线衍射 居里温度
分 类 号:O469]
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