文献类型：期刊文章

作　　者：白敏菂[1] 冷宏[2] 朱玉鹏[2] 李超群[2]

机构地区：[1]大连海事大学环境工程研究所,大连116026 [2]大连博羽环保技术开发有限公司,大连116000

出　　处：《电子工业专用设备》

基　　金：国家863资助项目(2008AA06Z317);国家自然科学基金资助项目(50778028)

年　　份：2010

卷　　号：39

期　　号：12

起止页码：13-15

语　　种：中文

收录情况：普通刊

摘　　要：随着超大规模集成电路的发展,高浓度臭氧水溶液产生设备成为硅片清洗的关键设备。因此大连海事大学环境工程研究所研制成功国内首台dho3l系列高浓度臭氧水溶液设备,它的臭氧水浓度达到20～30 mg/L。该设备采用强电场电离放电方法,将O2和H2O电离成高浓度氧活性粒子O2+、O3、O(1D)、O(3P)和引发剂HO2–,在引发剂HO2–作用下,O3与H2O生成高浓度臭氧水溶液。它具有臭氧水浓度高、自动化程度高、能耗低、体积小、高性价比等特点,并着重阐述了该设备的技术先进性及性能指标。

关 键 词：臭氧水溶液  臭氧浓度 硅片清洗 性价比

分 类 号：X505]