期刊文章详细信息
工艺参数对磁控溅射TiN膜成分影响的研究
Growth Parameters and Surface Stoichiometery of TiN Films Grown by Magnetron Sputtering
文献类型：期刊文章
机构地区：[1]中南工业大学应用物理与热能工程系,长沙410083
年 份：1999
卷 号：19
期 号：3
起止页码：225-227
语 种：中文
收录情况：BDHX、BDHX1996、CSCD、CSCD_E2011_2012、核心刊
摘 要：在不同的工艺参数条件下 ,采用磁控溅射技术制备了大量的TiN膜样品。通过对实验结果的仔细分析 ,得出了膜层颜色与氩气分压无关 ,而与溅射功率和氮气分压的比值有关的结论 ,并得到了微观结构分析的证实。
关 键 词：磁控溅射 镀膜 氮化钛 薄膜 工艺参数
分 类 号：TG174.442]
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