期刊文章详细信息
真空和射频溅射对ITO膜性能的影响
The Properties of ITO Films Effected by DC or RF Magnetron Sputtering
文献类型：期刊文章
机构地区：[1]烟台大学物理系
年 份：1999
期 号：2
起止页码：15-17
语 种：中文
收录情况：BDHX、BDHX1996、CAS、ZGKJHX、核心刊
摘 要：为进一步探求磁控溅射的机理，本文通过用直流和射频两种磁控溅射沉积ＩＴＯ（ＩｎｄｉｕｍＴｉｎＯｘｉｄｅ）膜的方法，由沉积后的ＩＴＯ膜的特性来揭示不同溅射方法的机制。
关 键 词：磁控溅射 ITO膜 薄膜 锡铟氧化物 性能
分 类 号：O484]
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