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期刊文章详细信息

直流磁控反应溅射制备Al_2O_3薄膜的工艺研究    

Study on Technology for Al_2O_3 Thin Films by DC Magnetron Reactive Sputtering

  

文献类型:期刊文章

作  者:杨和梅[1] 陈云富[1] 徐秀英[1]

机构地区:[1]南京农业大学工学院机械系,南京210031

出  处:《科学技术与工程》

基  金:江苏省农机局项目(gxz09010)资助

年  份:2010

卷  号:10

期  号:32

起止页码:7881-7885

语  种:中文

收录情况:RCCSE、ZGKJHX、普通刊

摘  要:应用直流磁控反应溅射技术在不锈钢基体上制备Al2O3薄膜,研究了溅射气压、氧气流量和基体温度对Al2O3薄膜的沉积速率和膜基结合力的影响规律。结果表明,随着压力的增大,沉积速率和膜基结合力先增大后减小。在压力为1.0Pa时最大;随着氧气流量的增加,沉积速率和膜基结合力也随之不断减小;随着温度的升高,沉积速率和膜基结合力略有下降。利用扫描电子显微镜观察了薄膜与基体界面及薄膜的表面微观形貌,薄膜与基体的结合性好,薄膜表面晶粒大小均匀,组织致密。

关 键 词:直流磁控反应溅射 氧化铝薄膜 工艺研究  沉积速率

分 类 号:O484] TB43[物理学类]

参考文献:

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同被引文献:

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