期刊文章详细信息
文献类型:期刊文章
机构地区:[1]黑龙江大学黑龙江省普通高等学校电子工程重点实验室,哈尔滨150080 [2]黑龙江大学集成电路重点实验室,哈尔滨150080 [3]哈尔滨工业大学MEMS中心,哈尔滨150001
基 金:国家自然科学基金资助(60676044);黑龙江省教育厅科学技术研究项目资助(11541266);黑龙江省普通高等学校电子工程重点实验室基金资助(DZZD20100037)
年 份:2010
卷 号:23
期 号:9
起止页码:1226-1231
语 种:中文
收录情况:BDHX、BDHX2008、CAS、CSCD、CSCD2011_2012、IC、INSPEC、JST、RCCSE、SCOPUS、ZGKJHX、核心刊
摘 要:利用MEMS技术在N型<100>晶向的单晶硅衬底上设计并制作了以纳米硅/单晶硅异质结为源极和漏极的P-MOSFETs脉象传感器。在方形硅膜上制作四个以纳米硅/单晶硅异质结为源极和漏极P-MOSFETs,并将P-MOSFETs的沟道电阻设计成惠斯通电桥结构,从而实现对微小脉象信号的准确检测。实验结果表明,该硅脉象传感器在恒压源-3.0V供电条件下,灵敏度为1.623mV/kPa,准确度为2.029%F.S。
关 键 词:MEMS 硅脉象传感器 MOSFET 纳米硅/单晶硅异质结
分 类 号:TP212]
参考文献:
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引证文献:
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同被引文献:
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