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C_3N_4/TiN交替复合膜的微结构研究 ( EI收录)
STUDY OF THE MICROSTRUCTURE OF ALTERNATING C 3N 4 IN CN x /TiN COMPOSITE FILMS PREPARED
文献类型：期刊文章
机构地区：[1]武汉大学理学院技术物理系
基 金：国家自然科学基金
年 份：1999
卷 号：48
期 号：5
起止页码：904-912
语 种：中文
收录情况：BDHX、BDHX1996、CAS、CSCD、CSCD2011_2012、EI、IC、INSPEC、JST、RCCSE、SCIE、SCOPUS、WOS、ZGKJHX、ZMATH、核心刊
摘 要：采用双阴极封闭型非平衡磁场ｄｃ反应磁控溅射离子镀制备Ｃ３Ｎ４／ＴｉＮ复合交替膜，用Ｘ射线光电子能谱法分析了薄膜的组成，测量了薄膜的Ｘ射线衍射谱和氮化碳的透射电子衍射图像．氮化碳经氮化钛的强迫晶化作用，生成了βＣ３Ｎ４和ｃＣ３Ｎ４．
关 键 词：复合膜 微结构 超硬材料 氮化碳 氮化钛
分 类 号：TQ163] O484.8]
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