文献类型：期刊文章

作　　者：谌一[1] 薛平[1] 袁韬[1] 陈炜[1] 陈瓞延[1]

机构地区：[1]清华大学现代应用物理系单原子分子测控教委开放实验室

出　　处：《光学学报》

基　　金：清华大学单原子分子测控研究中心资助课题;清华大学青年基金

年　　份：1999

卷　　号：19

期　　号：4

起止页码：486-490

语　　种：中文

收录情况：AJ、BDHX、BDHX1996、CAS、CSA-PROQEUST、CSCD、CSCD2011_2012、EI(收录号：2000215118300)、IC、JST、RCCSE、RSC、SCOPUS、ZGKJHX、核心刊

摘　　要：利用低相干光作为光源的光学相干层析技术是一种新型成像技术。本文利用蒙特－卡罗（Ｍｏｎｔｅ－Ｃａｒｌｏ）模拟计算方法研究了该技术在不同的散射条件下，相干调制信号随散射系数的变化关系，得出了单次散射和多次散射的差别以及它们对成像质量的影响，并进一步讨论了利用单次散射和多次散射信号，提高光学相干层析术图像清晰度和信号强度的方法。还研究了光束半径大小对成像分辨率的影响及变化过程。

关 键 词：光学相干层析 光散射效应  模拟计算 成像技术

分 类 号：O439] O436]