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期刊文章详细信息

纳米ZnO薄膜的热蒸发法制备及其光电特性研究    

Fabrication and Photoelectrical Properties of ZnO Thin Films Prepared by Thermal Evaporation Process

  

文献类型:期刊文章

作  者:楼曹鑫[1,2] 马锡英[2] 黄仕华[1] 王丽伟[1]

机构地区:[1]浙江师范大学数理信息学院,浙江金华321004 [2]绍兴文理学院光电材料研究所,浙江绍兴312000

出  处:《半导体光电》

基  金:国家自然科学基金项目(60776004;60976071)

年  份:2010

卷  号:31

期  号:5

起止页码:763-766

语  种:中文

收录情况:BDHX、BDHX2008、CAS、CSCD、CSCD_E2011_2012、INSPEC、JST、SCOPUS、ZGKJHX、核心刊

摘  要:以醋酸锌为原料、O/Ar的混合气体为携载气体,在500℃的温度下应用热蒸发法在p型Si基片上生长纳米ZnO薄膜,并研究了其形貌、结构和光电特性。X-射线(XRD)衍射结果显示所制备ZnO纳米晶体呈六角纤锌矿结构;扫描电子显微镜(SEM)观察发现生长的ZnO薄膜平整均匀,纳米晶体颗粒平均尺寸为25nm。应用紫外-可见光吸收谱分析了其吸收特性,发现该ZnO薄膜在紫外波段具有很强的吸收,其吸收边位于320nm处。由于量子限制效应,与体材料相比,该吸收边存在明显的蓝移。应用光致发光谱(PL)研究了其发光特性,发现该ZnO薄膜在近紫外以及蓝-绿光波段具有强烈的受激发射。最后,还研究了ZnO薄膜的电容-电压(C-V)特性。

关 键 词:热蒸发法 ZNO薄膜 光致发光 SEM

分 类 号:TN304.21]

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