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期刊文章详细信息

高压VDMOS场板终端技术的研究    

Study on the Field Plate Termination Technology of High Voltage VDMOS

  

文献类型:期刊文章

作  者:吴正元[1] 张硕[1] 董晓敏[1] 于军[1]

机构地区:[1]华中理工大学电子科学与技术系

出  处:《华中理工大学学报》

年  份:1999

卷  号:27

期  号:4

起止页码:43-45

语  种:中文

收录情况:BDHX、BDHX1996、CSCD、CSCD2011_2012、核心刊

摘  要:采用MIS模型进行VDMOS器件多级场板终端结构的设计并通过二维数值计算对MIS模型进行了修正,在工艺上首次引入聚酰亚胺/SiO2复合介质层进行多层布线,形成阶梯形场板,使VDMOS器件的终端耐压量BV≥700V.

关 键 词:VDMOS 阶梯形场板  高压场控器件  终端结构

分 类 号:TN386.1]

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同被引文献:

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