期刊文章详细信息
文献类型:期刊文章
机构地区:[1]中南工业大学材料科学与工程系
基 金:湖南省科委1998年重点科研项目
年 份:1999
卷 号:9
期 号:2
起止页码:323-326
语 种:中文
收录情况:AJ、BDHX、BDHX1996、CAS、CSA-PROQEUST、CSCD、CSCD2011_2012、EI、IC、INSPEC、JST、RCCSE、SCOPUS、ZGKJHX、核心刊
摘 要:分析了传统熔渗法生产的WCu材料气密性差的工艺因素,采用加入一定数量的诱导铜的工艺方法进行压型,通过调整成型压力,使生坯中的W含量达到电子封装WCu15含钨量的标准,其余的Cu在熔渗时渗入。实验表明,加入1%~2.5%的诱导铜的生坯在1350℃熔渗1.5h,其气密性可以达到满意的效果。
关 键 词:电子封装材料 气密性 诱导铜 钨铜合金
分 类 号:TN04] TG146.411[材料类]
参考文献:
正在载入数据...
二级参考文献:
正在载入数据...
耦合文献:
正在载入数据...
引证文献:
正在载入数据...
二级引证文献:
正在载入数据...
同被引文献:
正在载入数据...