文献类型：期刊文章

作　　者：陈迪春[1] 蒋百灵[2] 时惠英[2] 付杨洪[2]

机构地区：[1]西安理工大学现代分析测试中心,陕西西安710048 [2]西安理工大学材料科学与工程学院,陕西西安710048

出　　处：《电子显微学报》

基　　金：国家重点基础研究发展计划(973计划)资助项目(2009CB724406)

年　　份：2010

卷　　号：29

期　　号：4

起止页码：328-332

语　　种：中文

收录情况：BDHX、BDHX2008、CAS、CSCD、CSCD2011_2012、JST、RCCSE、ZGKJHX、核心刊

摘　　要：利用非平衡磁控溅射离子镀技术以纯钨靶和纯石墨靶作为溅射源制备了C/W纳米多层膜。采用X射线衍射(XRD)、X射线光电子能谱(XPS)和高分辨透射电子显微镜(HRTEM)对薄膜相组成及其微观组织结构进行了分析。结果表明:W含量约为9 at.%的C/W薄膜具有周期厚度约为6.5 nm的多层结构;沉积的W元素不以单质态存在,而是与碳元素反应生成了WC纳米晶;薄膜中的碳为非晶态,碳主要以sp2键类石墨态存在。

关 键 词：磁控溅射 C/W多层膜  TEM XPS

分 类 号：TB383[材料类] TG174]