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脉冲激光沉积法制备Zn0薄膜中衬底温度对Zn0薄膜结构的影响
Effect of the Substrate Temperature in the Preparation of Zn0 thin Film by the Pulse Laser Deposition
文献类型：期刊文章
机构地区：[1]商洛学院物理系,陕西商洛726000
年 份：2010
卷 号：20
期 号：4
起止页码：30-32
语 种：中文
收录情况：NSSD、普通刊
摘 要：采用溶胶——凝胶法制备高纯的靶材,利用PLD法生长薄膜,成功地在Si衬底上生长了高质量的ZnO薄膜,系统的研究了衬底温度对薄膜生长的影响。采用XRD对薄膜结构进行分析。XRD测试表明,大部分薄膜都具有高度的C轴择优生长取向性,只有衬底温度过高薄膜结构才发生改变。
关 键 词：溶胶——凝胶 脉冲激光沉积(PLD) ZNO薄膜 X射线衍射(XRD)
分 类 号：TN304]
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