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在三价铬Cl^--SO_4^(2-)体系中电沉积厚镀层的研究
Thick Chromium Electrodeposition From Bath Containing Cl\+-\|SO\+\{2-\}\-4 and Urea Mixture
文献类型:期刊文章
机构地区:[1]中南工业大学冶金物理化学研究所
基 金:国家自然科学基金
年 份:1999
卷 号:32
期 号:6
起止页码:1-3
语 种:中文
收录情况:AJ、BDHX、BDHX1996、CAS、CSA、CSA-PROQEUST、CSCD、CSCD2011_2012、JST、ZGKJHX、核心刊
摘 要:研究了在新型尿素氯化物硫酸盐混合物三价铬溶液中电镀铬的工艺条件对镀层的影响,详细考察了电流密度、pH值、络合剂浓度、恒电流/恒电位方式对电流效率和镀层外观质量的影响。结果表明:pH值在1.9~2.3之间、电流密度在7~11A/dm2范围内、络合剂浓度为2mol/L时获得的镀层能达到较大厚度和较高的电流效率,镀层光亮致密。在此工艺条件下,可获得30~40μm的镀层。提出了三价铬电化学聚合的新假设。
关 键 词:电沉积 铬 镀层 电镀 镀铬 尿素 氯化物 硫酸盐
分 类 号:TQ153.11]
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