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期刊文章详细信息

基于0.18μm SiGe BiCMOS工艺的高线性射频功率放大器    

High-Linearity RF Power Amplifier in 0.18 μm SiGe BiCMOS Technology

  

文献类型:期刊文章

作  者:阮颖[1,2] 陈磊[1] 田亮[1] 周进[1] 赖宗声[1,3]

机构地区:[1]华东师范大学微电子电路与系统研究所,上海200062 [2]上海电力学院计算机与信息工程学院,上海200090 [3]华东师范大学纳光电集成与先进装备教育部工程研究中心,上海200062

出  处:《微电子学》

基  金:科技部国家科技重大专项资助项目(2009ZX01034-002-002-001);上海AM基金资助项目(09700713800)

年  份:2010

卷  号:40

期  号:4

起止页码:469-472

语  种:中文

收录情况:AJ、BDHX、BDHX2008、CAS、CSA、CSA-PROQEUST、CSCD、CSCD_E2011_2012、IC、INSPEC、JST、ZGKJHX、核心刊

摘  要:采用0.18μm SiGe BiCMOS工艺,设计应用于无线局域网(WLAN)802.11b/g 2.4GHz频段的Class AB射频功率放大器。该放大器采用两级放大结构,具有带温度补偿的线性化偏置电路。仿真结果显示:电路的输入匹配S11小于-13 dB,输出匹配S22小-于20 dB,功率增益达27.3 dB,输出1 dB压缩点为23 dBm,最大功率附加效率(PAE)为21.3%;实现了匹配电路、放大电路和偏置电路的片上全集成,芯片面积为1 148μm×1 140μm。

关 键 词:射频功率放大器 SIGE BICMOS

分 类 号:TN402]

参考文献:

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耦合文献:

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引证文献:

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同被引文献:

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