期刊文章详细信息
基于0.18μm SiGe BiCMOS工艺的高线性射频功率放大器
High-Linearity RF Power Amplifier in 0.18 μm SiGe BiCMOS Technology
文献类型:期刊文章
机构地区:[1]华东师范大学微电子电路与系统研究所,上海200062 [2]上海电力学院计算机与信息工程学院,上海200090 [3]华东师范大学纳光电集成与先进装备教育部工程研究中心,上海200062
基 金:科技部国家科技重大专项资助项目(2009ZX01034-002-002-001);上海AM基金资助项目(09700713800)
年 份:2010
卷 号:40
期 号:4
起止页码:469-472
语 种:中文
收录情况:AJ、BDHX、BDHX2008、CAS、CSA、CSA-PROQEUST、CSCD、CSCD_E2011_2012、IC、INSPEC、JST、ZGKJHX、核心刊
摘 要:采用0.18μm SiGe BiCMOS工艺,设计应用于无线局域网(WLAN)802.11b/g 2.4GHz频段的Class AB射频功率放大器。该放大器采用两级放大结构,具有带温度补偿的线性化偏置电路。仿真结果显示:电路的输入匹配S11小于-13 dB,输出匹配S22小-于20 dB,功率增益达27.3 dB,输出1 dB压缩点为23 dBm,最大功率附加效率(PAE)为21.3%;实现了匹配电路、放大电路和偏置电路的片上全集成,芯片面积为1 148μm×1 140μm。
关 键 词:射频功率放大器 SIGE BICMOS
分 类 号:TN402]
参考文献:
正在载入数据...
二级参考文献:
正在载入数据...
耦合文献:
正在载入数据...
引证文献:
正在载入数据...
二级引证文献:
正在载入数据...
同被引文献:
正在载入数据...