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用组合靶溅射制备Nd_2Fe_(14)B薄膜的研究 ( EI收录)
Study on the Sputtered Nd2Fe14B Thin Films with Composite Target
文献类型：期刊文章
机构地区：[1]兰州大学磁性材料研究所 [2]信州大学情报工学科
年 份：1999
卷 号：30
期 号：2
起止页码：150-151
语 种：中文
收录情况：BDHX、BDHX1996、CAS、CSCD、CSCD2011_2012、EI(收录号：2000215117703)、IC、JST、RCCSE、RSC、SCOPUS、ZGKJHX、核心刊
摘 要：采用单质Ｆｅ、Ｎｄ、Ｂ组成的靶，用对向靶溅射系统制备出了含有Ｎｄ２Ｆｅ１４Ｂ相的薄膜。发现Ｎｄ２Ｆｅ１４Ｂ相能够较好地形成的基板温度范围是５００℃～６００℃。并且相对于热氧化硅基板（ＳｉＯ２／Ｓｉ）。
关 键 词：ND2FE14B 永磁薄膜 基板温度 组合靶溅射
分 类 号：TM273.051[材料类]
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