期刊文章详细信息
硅单晶片镜面吸附物吸附状态的研究 ( EI收录)
Investigation on Adsorption State of Surface Adsorbate on Silicon Wafer
文献类型：期刊文章
机构地区：[1]河北工业大学,天津300130 [2]北京石化工程公司,北京100101 [3]北京汽车总公司,北京100020
年 份：1999
卷 号：23
期 号：2
起止页码：85-89
语 种：中文
收录情况：AJ、BDHX、BDHX1996、CAS、CSA、CSA-PROQEUST、CSCD、CSCD2011_2012、EI、IC、JST、RCCSE、SCOPUS、ZGKJHX、核心刊
摘 要：提出了新抛光硅片镜面吸附物吸附动力学过程和优先吸附数学模型及吸附物吸附状态控制机理。
关 键 词：硅片 单晶硅 镜面吸附物 吸附状态
分 类 号：TN304.12]
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