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期刊文章详细信息

Al-Si 合金中初晶 Si 的台阶生长  ( EI收录)  

Step Growth of Primary Silicon in Al Si Alloy

  

文献类型:期刊文章

作  者:王渠东[1] 丁文江[1] 翟春泉[1] 徐小平[1] 金俊泽[2]

机构地区:[1]上海交通大学材料科学与工程学院 [2]大连理工大学铸造工程研究中心

出  处:《上海交通大学学报》

基  金:国家自然科学基金

年  份:1999

卷  号:33

期  号:2

起止页码:142-145

语  种:中文

收录情况:AJ、BDHX、BDHX1996、CAS、CSA、CSA-PROQEUST、CSCD、CSCD2011_2012、EI(收录号:1999454800187)、IC、INSPEC、JST、MR、PROQUEST、RCCSE、SCOPUS、ZGKJHX、ZMATH、核心刊

摘  要:采用离心倾液法研究过共晶Al-Si合金初晶Si的生长形貌时发现,初晶Si存在生长台阶,台阶的高度为数十至数百微米,从初晶Si根部至尖端,台阶的高度逐渐变小,初晶Si存在位错台阶生长机制.这一生长机制能够形成棱柱体或棱锥体、八面体和球形初晶Si,以及产生初晶Si的分枝和形成初晶Si的生长迹线.

关 键 词:离心倾液法  台阶生长  初晶硅 铝硅合金

分 类 号:TG146.21[材料类]

参考文献:

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二级参考文献:

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耦合文献:

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引证文献:

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二级引证文献:

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同被引文献:

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