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磁控溅射靶源设计及溅射工艺研究
文献类型：期刊文章
机构地区：[1]陕西师范大学物理学系 [2]咸阳师范专科学校物理学系
年 份：1999
卷 号：27
期 号：1
起止页码：36-38
语 种：中文
收录情况：BDHX、BDHX1996、CSCD、CSCD2011_2012、核心刊
摘 要：设计制作了方便实用的圆形直流平面磁控溅射靶源；用ＣＴ—５型高斯计测量铝靶面上的磁场分布，给出靶电压和靶电流随溅射氩气压（３．０×１０－１～９．０×１０－１Ｐａ）的变化曲线和３种不同气压（１．０，０．６，０．２Ｐａ）下的伏安特性曲线；在玻璃基体上制备了高纯铝、铜和钛膜．结果表明，该靶源可得到最佳磁场分布，且结构简单、更换靶材方便、溅射电压和气压低、成膜速度快、基体温升低．
关 键 词：磁控溅射 靶源 设计 溅射工艺 薄膜 镀膜机
分 类 号：TB43] O484.1]
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