文献类型：期刊文章

作　　者：潘磊[1] 王晓强[1] 张众[1] 朱京涛[1] 王占山[1] 李乙洲[2] 李宏杰[2] 王道荣[2] 赵巨岩[2] 陆伟[2]

机构地区：[1]同济大学物理系精密光学工程技术研究所,上海市特殊人工微结构材料与技术重点实验室,上海200092 [2]中国运载火箭研究院试验物理与计算数学实验室,北京100076

出　　处：《强激光与粒子束》

基　　金：国家自然科学基金项目(10825521,10876023,10905042);国家高技术发展计划项目;上海市自然科学基金项目(09ZR1434300);上海市科委纳米计划项目(0952nm06900);上海市教育发展基金会晨光计划项目(2008CG25);同济大学青年优秀人才培养计划项目

年　　份：2010

卷　　号：22

期　　号：7

起止页码：1535-1538

语　　种：中文

收录情况：BDHX、BDHX2008、CAS、CSA-PROQEUST、CSCD、CSCD2011_2012、EI(收录号：20103013099013)、IC、INSPEC、JST、RCCSE、SCOPUS、ZGKJHX、核心刊

摘　　要：为满足极紫外、软X射线和X射线大口径多层膜反射镜的需求,采用基板扫掠过矩形靶材表面的镀膜方法,在直径120 mm的平面基板上镀制了Mo/Si周期多层膜。通过调整基板扫掠过矩形靶材表面的速率修正了薄膜的沉积速率,极大地提高了薄膜厚度的均匀性。采用X射线衍射仪对反射镜不同位置多层膜周期厚度进行了测量,结果表明,在直径120 mm范围内,Mo/Si多层膜周期厚度的均匀性达到了0.26%。同步辐射测量多层膜样品不同位置处的反射率,结果表明,在直径120 mm范围内,多层膜的膜层厚度均匀,在入射角10°时13.75 nm波长处平均反射率为66.82%。

关 键 词：MO/SI多层膜 磁控溅射 均匀性 反射率 同步辐射  

分 类 号：O434]