文献类型：期刊文章

作　　者：牛荣军[1] 刘红彬[1] 黄平[2]

机构地区：[1]河南科技大学机电工程学院,河南洛阳471003 [2]华南理工大学机械设计及理论研究所,广东广州510640

出　　处：《润滑与密封》

基　　金：国家重点基础研究发展计划资助项目(2003CB716205)

年　　份：2010

卷　　号：35

期　　号：6

起止页码：15-19

语　　种：中文

收录情况：BDHX、BDHX2008、CAS、CSCD、CSCD_E2011_2012、IC、JST、RCCSE、RSC、SCOPUS、ZGKJHX、核心刊

摘　　要：考察磁头与磁盘间隙下降到10nm以下时,磁盘表面粗糙度对气膜润滑性能的影响。采用余弦粗糙度代替实际磁盘表面粗糙度分布。通过改变粗糙度的波长、幅值等特征参数来分析对纳米气膜润滑性能的影响。分析结果表明在纳米级间隙下,磁盘表面粗糙度对气膜压力分布产生明显作用,特别是在气膜较小区域这种波动更加明显,但是随着粗糙度波数的增加压力波动趋于平稳。气膜厚度是决定压力大小的重要因素,在一定粗糙度工况下,随着气膜厚度的增大,粗糙度的影响逐渐减小。

关 键 词：气体轴承 粗糙表面  气体润滑 数值分析  

分 类 号：TH117.2]