文献类型：期刊文章

作　　者：李文波[1,2] 王刚[2] 张卓[2] 胡望[2] 刘宏宇[2] 邵喜斌[2] 徐征[1]

机构地区：[1]北京交通大学光电子技术研究所,北京100044 [2]京东方科技集团股份有限公司技术研发中心,北京100015

出　　处：《半导体技术》

基　　金：国家"863"计划资助项目(2008AA03A334);中国博士后科学基金资助项目(20090460265)

年　　份：2010

卷　　号：35

期　　号：6

起止页码：522-526

语　　种：中文

收录情况：AJ、BDHX、BDHX2008、CAS、CSA、CSA-PROQEUST、CSCD、CSCD_E2011_2012、INSPEC、JST、ZGKJHX、核心刊

摘　　要：薄膜晶体管液晶显示器(TFT-LCD)产业经过20年的发展,其规模已经远远超出10年前的预想,技术发展也呈现出加速进步的趋势。各种新一代光刻技术的出现显著提升了掩模版的制作精度,对其市场价格也造成了不小的冲击。在TFT-LCD阵列基板制造方面,4掩模版光刻工艺技术逐渐成为当今主流,而3掩模版光刻工艺因其技术难度大、良品率低,目前还掌握在少数几家TFT-LCD厂商手中。通过对掩模版的国内外市场行情、技术进展以及掩模版数目与TFT-LCD阵列工艺的关系作全面的阐述,指出加强TFT-LCD掩模版等配套材料的自主研发、采用更加先进的制造技术是简化生产工艺、降低生产成本的有效手段,也是我国TFT-LCD产业下一步努力发展的方向。

关 键 词：掩模版 薄膜晶体管液晶显示器 阵列工艺  技术进展  市场行情

分 类 号：TN321.5] TN305.6