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低压化学气相沉积法制备TiO_2膜的研究
STUDY ON TiO 2 FILMS DEPOSITED BY LOW PRESSURE CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION
文献类型：期刊文章
机构地区：[1]太原理工大学材料工程学院材料系 [2]太原理工大学应化系
基 金：山西省留学归国人员基金
年 份：1999
卷 号：11
期 号：1
起止页码：13-16
语 种：中文
收录情况：CAS、CSCD、CSCD2011_2012、JST、RSC、ZGKJHX、普通刊
摘 要：以四异丙醇钛为原料，采用低压化学气相沉积法研究ＴｉＯ２薄膜的沉积条件。采用紫外光谱、Ｘ射线衍射、扫描电镜等测试手段对ＴｉＯ２膜的光学性质及结构形貌进行了表征。实验表明：ＴｉＯ２膜在可见光和近红外范围内的折光率为３．１５，比用常压法制备的ＴｉＯ２膜的折光率高出３６．５％。因而，低压化学气相沉积法是制备高折射率的ＴｉＯ２膜更有效的一种方法。
关 键 词：LPCVD法 沉积条件 折光率 二氧化钛薄膜 制备
分 类 号：O614.411]
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