文献类型：期刊文章

作　　者：李学超[1] 李长生[1] 莫超超[1] 丁建[1] 朱秉莹[1]

机构地区：[1]江苏大学材料学院摩擦学重点实验室,镇江212013

出　　处：《真空科学与技术学报》

年　　份：2010

卷　　号：30

期　　号：3

起止页码：249-253

语　　种：中文

收录情况：BDHX、BDHX2008、CAS、CSCD、CSCD_E2011_2012、EI(收录号：20102613045805)、JST、RSC、SCOPUS、ZGKJHX、核心刊

摘　　要：采用双靶反应磁控溅射的方法,通过改变基体相对于靶材的位置制备了一系列不同化学成分的W1-xTixN薄膜。用X射线衍射仪,扫描电子显微镜,能量散色谱等检测手段对薄膜的表面状态,化学成分以及结构等进行了表征,采用UMT-3型多功能摩擦磨损试验机,在室温、大气环境、无润滑的条件下对不同成分WTiN薄膜的摩擦学性能进行了评价。试验结果表明:薄膜的化学成分伴随着位置的改变在W0.80Ti0.20N和W0.18Ti0.82N的范围内发生变化;在经历了800℃,1 h的退火以后不同位置制备的薄膜先后出现了TiN,TiN0.6O0.4,W2N,W等多种物相结构;随着Ti含量的增加,薄膜的纳米硬度最高可达29.8 GPa,弹性模量最高可达277.5 GPa。一系列摩擦数据显示x=0.52的薄膜在所制备的WTiN薄膜体系中拥有最佳的摩擦学性能。

关 键 词：W-Ti-N薄膜  反应磁控溅射 基体位置  摩擦磨损性能

分 类 号：O484]