文献类型：期刊文章

作　　者：王海方[1] 李毅[1,2] 俞晓静[1] 朱慧群[1,3] 黄毅泽[1] 张虎[1] 张伟[1] 周晟[1]

机构地区：[1]上海理工大学光电信息与计算机工程学院,上海200093 [2]上海市现代光学系统重点实验室,上海200093 [3]五邑大学薄膜与纳米材料研究所,广东江门529020

出　　处：《光学学报》

基　　金：国家863计划(2006AA03Z348);教育部科学技术研究重点项目(207033);上海市科学技术委员会科技攻关计划项目(06DZ11415);上海市教委重点项目(10ZZ94)资助课题

年　　份：2010

卷　　号：30

期　　号：5

起止页码：1522-1526

语　　种：中文

收录情况：AJ、BDHX、BDHX2008、CAS、CSA-PROQEUST、CSCD、CSCD2011_2012、EI(收录号：20102413003431)、IC、JST、RCCSE、RSC、SCOPUS、ZGKJHX、核心刊

摘　　要：基于二氧化钒在约68℃出现的半导体到金属的可逆相变,伴随有电学和光学特性的改变。因为相变机制的复杂性,很难从理论上推导出相变前后光学常数随波长和温度变化的解析表达式。研究了二氧化钒薄膜的折射率和消光系数的色散规律,借助于Sellmeier色散模型通过数值拟合,得出了二氧化钒变温的光学常数色散表达式。通过薄膜矩阵理论计算,获得了在不同温度和波长条件下的薄膜光学透射率和反射率。采用磁控溅射方法分别在玻璃、蓝宝石和二氧化硅衬底上制备了不同厚度的二氧化钒薄膜,测量了这些薄膜的光学透射率和反射率,结果表明,实验曲线与计算模拟曲线符合得很好。

关 键 词：薄膜光学 二氧化钒 光学常数 红外特性 数值拟合  

分 类 号：TB43] TN215]