期刊文章详细信息
文献类型:期刊文章
机构地区:[1]昆明物理研究所 [2]北京理工大学
年 份:1999
卷 号:21
期 号:1
起止页码:6-9
语 种:中文
收录情况:BDHX、BDHX1996、CSCD、CSCD_E2011_2012、JST、ZGKJHX、核心刊
摘 要:近年来,红外非制冷焦平面阵列技术已取得令人瞩目的进展,凭借其低成本、可接受的性能,正在开拓民用乃至军用市场。本文描述了目前主要的两种非制冷焦平面阵列技术的发展状况,并对二者以及它们与制冷型焦平面阵列进行比较与探讨。
关 键 词:非制冷 热成像 红外焦平面技术 UFPA
分 类 号:TN21]
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