文献类型：期刊文章

作　　者：邵乐喜[1] 谢二庆[1] 贺德衍[1] 陈光华[2] 徐康[3]

机构地区：[1]兰州大学物理系,甘肃兰州730000 [2]北京工业大学应用物理系,北京100022 [3]中国科学院化学物理研究所,甘肃兰州730000

出　　处：《无机材料学报》

基　　金：国家教委优秀青年教师基金;国家自然科学基金!69676005

年　　份：1998

卷　　号：13

期　　号：6

起止页码：927-931

语　　种：中文

收录情况：BDHX、BDHX1996、CAS、CSA、CSA-PROQEUST、CSCD、CSCD2011_2012、DOAJ、EI(收录号：1999014545493)、IC、JST、RCCSE、SCI-EXPANDED(收录号：WOS:000077808800030)、SCIE、SCOPUS、WOS、ZGKJHX、核心刊

摘　　要：研究了纳米金刚石粉预处理的光滑硅衬底上CVD金刚石薄膜的成核与生长．通过与研磨处理样品相比较，纳米金刚石的预处理极大地提高了成核密度（可达109／cm2）、成核速度与成膜质量，并能方便地进行成核密度的控制，是一种经济实用、简单有效的预处理方法．

关 键 词：CVD 金刚石 成核 薄膜  预处理

分 类 号：O484.1] TQ163[物理学类]