文献类型：期刊文章

作　　者：王永钱[1,2] 江旭东[1] 潘春旭[1,3]

机构地区：[1]武汉大学物理科学与技术学院和电子显微镜中心,湖北武汉430072 [2]教育部纳米矿物材料及应用工程研究中心(中国地质大学),湖北武汉430074 [3]武汉大学教育部声光材料与器件重点实验室,湖北武汉430072

出　　处：《金属热处理》

基　　金：国家重点基础研究发展计划(2009CB939705);湖北省自然科学基金(2007ABA217)

年　　份：2010

卷　　号：35

期　　号：3

起止页码：20-25

语　　种：中文

收录情况：AJ、BDHX、BDHX2008、CAS、CSA、CSA-PROQEUST、CSCD、CSCD2011_2012、IC、JST、RCCSE、SCOPUS、ZGKJHX、核心刊

摘　　要：介绍了利用微弧氧化技术制备TiO2光催化薄膜的工艺过程、形成机理、影响因素,以及膜层结构与性能之间的关系等。提出在微弧氧化工艺制备TiO2光催化薄膜的过程中,通过复合半导体、金属掺杂和非金属掺杂,可以有效地提高其光催化性能。

关 键 词：微弧氧化 二氧化钛 光催化 表面改性

分 类 号：TG174.44]