登录    注册    忘记密码

期刊文章详细信息

NEA GaAs光电阴极表面和UHV系统微颗粒污染的寻源分析与排除  ( EI收录)  

Analysis and Elimination of Micro-particle Contaminants Source on NEA GaAs Photocathode Surface and Inside of the UHV System

  

文献类型:期刊文章

作  者:陈高善[1] 程宏昌[2] 石峰[1] 刘晖[1] 冯刘[1] 任兵[1] 成伟[1]

机构地区:[1]西安应用光学研究,西安710065 [2]所微光夜视技术国防科技重点实验室,西安710065

出  处:《真空科学与技术学报》

年  份:2010

卷  号:30

期  号:2

起止页码:205-210

语  种:中文

收录情况:BDHX、BDHX2008、CAS、CSCD、CSCD_E2011_2012、EI(收录号:20102012927143)、JST、RSC、SCOPUS、ZGKJHX、核心刊

摘  要:借助于扫描电镜和能量分散X-ray能谱分析方法,对发生在超高真空(UHV)系统内,负电子亲和势GaAs光阴极表面上的金属微颗粒污染物进行了分析研究。给出了存在于表面上微颗粒污染物的性质、类型、所占比例、构成成分、形貌、几何尺寸。介绍了寻找、排除微颗粒污染物的方法,并由成分分析结果,找到并排除了UHV系统内Mo微颗粒污染物产生的源头。发现在UHV系统内,传递杆等可移动部件的较粗糙表面具有携带、输运、抛撒微颗染污染物的功能。对UHV系统进行了全面的清洗处理,使其恢复到了原有的正常状态。

关 键 词:表面微颗粒污染  UHV系统污染  GaAs光电阴极表面污染  能谱成分分析  线性传递杆  

分 类 号:TN15]

参考文献:

正在载入数据...

二级参考文献:

正在载入数据...

耦合文献:

正在载入数据...

引证文献:

正在载入数据...

二级引证文献:

正在载入数据...

同被引文献:

正在载入数据...

版权所有©重庆科技学院 重庆维普资讯有限公司 渝B2-20050021-7
 渝公网安备 50019002500408号 违法和不良信息举报中心