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期刊文章详细信息

共沉淀分离富集-电感耦合等离子体原子发射光谱法测定高纯氧化钨中痕量金属杂质  ( EI收录)  

Simultaneous Determination of Trace Metal Impurities in High-Purity Tungsten Trioxide by Coprecipitation and Inductively Coupled Plasma-Atomic Emission Spectrometry

  

文献类型:期刊文章

作  者:马晓国[1] 梁奕昌[1] 游卫强[2] 张展霞[3]

机构地区:[1]广东工业大学分析测试中心,广州510090 [2]广东新会市港口发展公司,新会529100 [3]中山大学化学系,广州510275

出  处:《分析化学》

年  份:1998

卷  号:26

期  号:9

起止页码:1097-1100

语  种:中文

收录情况:AJ、BDHX、BDHX1996、CAS、CSCD、CSCD2011_2012、EBSCO、EI、IC、JST、RCCSE、SCIE、SCOPUS、UPD、WOS、ZGKJHX、核心刊

摘  要:提出了以La(OH)3为共沉淀剂,对高纯氧化钨中的痕量金属杂质元素经共沉淀预分离富集后进行ICP-AES测定的分析方法。探讨了影响杂质元素回收率和钨残留量的若干因素,确定了合适的分离富集条件。合成试样和标准样品的测试结果表明: Bi、Ca、Cd、Co、Cu、Fe、Mg、Mn、Ni、Pb、Sb、Sn、Ti等元素能被定量分离回收,回收率和精密度均令人满意。

关 键 词:共沉淀 氧化钨 杂质  ICP AES 高纯氧化钨  测定  

分 类 号:TQ136.13]

参考文献:

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二级参考文献:

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耦合文献:

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引证文献:

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同被引文献:

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