期刊文章详细信息
共沉淀分离富集-电感耦合等离子体原子发射光谱法测定高纯氧化钨中痕量金属杂质 ( EI收录)
Simultaneous Determination of Trace Metal Impurities in High-Purity Tungsten Trioxide by Coprecipitation and Inductively Coupled Plasma-Atomic Emission Spectrometry
文献类型:期刊文章
机构地区:[1]广东工业大学分析测试中心,广州510090 [2]广东新会市港口发展公司,新会529100 [3]中山大学化学系,广州510275
年 份:1998
卷 号:26
期 号:9
起止页码:1097-1100
语 种:中文
收录情况:AJ、BDHX、BDHX1996、CAS、CSCD、CSCD2011_2012、EBSCO、EI、IC、JST、RCCSE、SCIE、SCOPUS、UPD、WOS、ZGKJHX、核心刊
摘 要:提出了以La(OH)3为共沉淀剂,对高纯氧化钨中的痕量金属杂质元素经共沉淀预分离富集后进行ICP-AES测定的分析方法。探讨了影响杂质元素回收率和钨残留量的若干因素,确定了合适的分离富集条件。合成试样和标准样品的测试结果表明: Bi、Ca、Cd、Co、Cu、Fe、Mg、Mn、Ni、Pb、Sb、Sn、Ti等元素能被定量分离回收,回收率和精密度均令人满意。
关 键 词:共沉淀 氧化钨 杂质 ICP AES 高纯氧化钨 测定
分 类 号:TQ136.13]
参考文献:
正在载入数据...
二级参考文献:
正在载入数据...
耦合文献:
正在载入数据...
引证文献:
正在载入数据...
二级引证文献:
正在载入数据...
同被引文献:
正在载入数据...