文献类型：期刊文章

作　　者：齐红基[1,2] 王晴云[1] 肖秀娣[1] 易葵[1] 贺洪波[1] 范正修[1]

机构地区：[1]中国科学院上海光学精密机械研究所,上海201800 [2]上海大恒光学精密机械有限公司,上海201800

出　　处：《光学学报》

基　　金：国家自然科学基金(60778026);上海科技启明星基金(07QB14006)资助课题

年　　份：2010

卷　　号：30

期　　号：1

起止页码：287-293

语　　种：中文

收录情况：AJ、BDHX、BDHX2008、CAS、CSA-PROQEUST、CSCD、CSCD2011_2012、EI(收录号：20101012752738)、IC、JST、RCCSE、RSC、SCOPUS、ZGKJHX、核心刊

摘　　要：基于双轴双折射薄膜模型,利用在不同入射角度下薄膜对两种偏振态光波透射光谱,同时获得"雕塑"薄膜主轴折射率N1,N2,N3和薄膜厚度d及柱状角β等参数。基于倾斜沉积技术,利用电子束反应蒸发方法制备了氧化钽"雕塑"薄膜。借助于模拟退火算法,对入射角度为0,20°,30°,45°和60°时两种偏振态光波的透射光谱进行拟合,确定了氧化钽"雕塑"薄膜的结构参数,并与场发射扫描电镜测量的薄膜结构进行了比较。结果表明,利用透射光谱曲线可以较为准确地获得"雕塑"薄膜的结构参数。

关 键 词：薄膜  结构参数提取  倾斜沉积技术  模拟退火算法 “雕塑”薄膜  

分 类 号：O484]