期刊文章详细信息
掺磷中孔SiO_2在30℃~200℃范围内的质子导电性
Proton Conduction of Mesoporous Phosphorus Hybrid SiO_2 at Temperature Range 30℃~200℃
文献类型:期刊文章
机构地区:[1]华南理工大学化学与化工学院,广东广州510640 [2]厦门大学化学与化工学院化学与生物工程系,福建厦门361005
基 金:科技部十一五"863"计划(2008AA05Z107);华南理工大学学生研究计划(SRP)
年 份:2010
卷 号:38
期 号:2
起止页码:54-56
语 种:中文
收录情况:CAS、普通刊
摘 要:合成了孔壁掺磷中孔SiO2(m-PH-SiO2),其BET比表面积为407m2g-1,BJH平均孔径为6.1nm。用交流阻抗技术测定了除去游离P2O5的掺磷中孔SiO2在30℃~200℃范围内100%相对湿度下的质子电导,样品导电率随温度升高而升高,在150℃和100%相对湿度下,样品的电导可达3.1×10-3S·cm-1,比纯中孔SiO2(m-SiO2)的电导约高一个数量级,原因是m-PH-SiO2的物理吸附水量为31个分子/nm2,而m-SiO2只有24个分子/nm2。
关 键 词:掺磷中孔SiO2 中温 质子电导
分 类 号:TQ424.1] TB383[材料类]
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