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期刊文章详细信息

常温高效硫酸盐三价铬电镀工艺    

Technology for Efficient Chromium Electroplating at Ambient Temperature in Trivalent Chromium Sulfate Bath

  

文献类型:期刊文章

作  者:孙化松[1] 屠振密[1] 李永彦[1] 李炳江[1] 李宁[1]

机构地区:[1]哈尔滨工业大学(威海)应用化学系,山东威海264209

出  处:《材料保护》

年  份:2010

卷  号:43

期  号:1

起止页码:25-27

语  种:中文

收录情况:AJ、BDHX、BDHX2008、CAS、CSA、CSA-PROQEUST、CSCD、CSCD2011_2012、JST、ZGKJHX、核心刊

摘  要:六价铬电镀工艺严重污染环境,有望被三价铬电镀取代。三价铬电镀分为氯化物体系和硫酸盐体系,其中硫酸盐体系因具有阳极无有害气体析出、不腐蚀设备等优点,近年来发展迅速。通过大量试验开发出常温甲酸-草酸体系硫酸盐工艺,并借助小槽挂镀、Tafel曲线、EIS曲线和CASS试验等方法对镀液和镀层性能进行了分析。结果表明,在优化工艺条件下,该工艺镀层沉积速率高达0.18μm/min以上,分散能力93%,覆盖能力96%,耐蚀性好,是一种性能优良、高效的三价铬电镀工艺。

关 键 词:三价铬电镀 硫酸盐体系 常温 沉积速率 分散能力  覆盖能力  耐蚀性  

分 类 号:TQ153.1]

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