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常温高效硫酸盐三价铬电镀工艺
Technology for Efficient Chromium Electroplating at Ambient Temperature in Trivalent Chromium Sulfate Bath
文献类型:期刊文章
机构地区:[1]哈尔滨工业大学(威海)应用化学系,山东威海264209
年 份:2010
卷 号:43
期 号:1
起止页码:25-27
语 种:中文
收录情况:AJ、BDHX、BDHX2008、CAS、CSA、CSA-PROQEUST、CSCD、CSCD2011_2012、JST、ZGKJHX、核心刊
摘 要:六价铬电镀工艺严重污染环境,有望被三价铬电镀取代。三价铬电镀分为氯化物体系和硫酸盐体系,其中硫酸盐体系因具有阳极无有害气体析出、不腐蚀设备等优点,近年来发展迅速。通过大量试验开发出常温甲酸-草酸体系硫酸盐工艺,并借助小槽挂镀、Tafel曲线、EIS曲线和CASS试验等方法对镀液和镀层性能进行了分析。结果表明,在优化工艺条件下,该工艺镀层沉积速率高达0.18μm/min以上,分散能力93%,覆盖能力96%,耐蚀性好,是一种性能优良、高效的三价铬电镀工艺。
关 键 词:三价铬电镀 硫酸盐体系 常温 沉积速率 分散能力 覆盖能力 耐蚀性
分 类 号:TQ153.1]
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